產品詳情
簡單介紹：
氣氛型可調高溫加熱裝置氣氛可調節近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合，并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。氣氛型可調高溫加熱裝置也可以根據用戶的需進行定制。
詳情介紹：
氣氛型可調高溫加熱裝置
產品介紹
中小型高溫爐是工業生產與科研中常用的設備之一。目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體，升溫速率慢、無法實現變溫環境模擬，且不同氣氛環境以共用。在研的“工業級與科研級特種紅外高溫爐”，具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調（一臺設備同時實現大氣/真空/惰性氣體等）的優點。
氣氛可調節近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合，并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。也可以根據用戶的需進行定制。
更多應用
太陽能電池基板的熱處理
在氣氛環境下的熱處理
各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理
模擬器漸變熱處理
熱循環熱沖擊試驗研究
半導體材料的燒結和工藝退火爐
特點
設定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件
多步驟及循環加熱利用氣體冷卻機構的高速氣體淬火
可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設定和外部信號
另外，可以在電腦上顯示加蒸中的溫度數據
技術參數
